2024 -09
艾司摩爾:新EUV能耗減少
半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)者艾司摩爾(ASML)昨日在SEMICON Taiwan半導(dǎo)體展,分享新一代高數(shù)值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影技術(shù),艾司摩爾High NA EUV產(chǎn)品管理副總裁Greet Storms表示,新一代設(shè)備雖貴,但絕對值得。
High NA EUV于二○二三年問世,去年底出貨給首家下單的美系客戶,亞洲客戶將于今、明年陸續(xù)安裝。
不過,EUV設(shè)備被喻為吃電怪獸,但ASML提出統(tǒng)計(jì)指出,二○一八年到二○二三年五年間,EUV曝光每片晶圓能耗減少近百分之四十,希望到二○二五年再減少近百分之卅五能耗。
2024-09-29
2025-02-07
2025-02-07
2025-02-07
2025-02-07
2025-02-07
2025-02-07
2025-02-07
2025-02-07
2025-02-07
2025-02-07